금성사,APCVD기술 세계최초개발 SID총회에 논문발표

박막트랜지스터(TFT) 액정디스플레이(LCD)제조기술의 일종인 "상압화학적 기상증착방법 APCVD 이 세계최초로 국내 기술진에 의해 개발됐다.

금성사(대표이헌조)는 10억여원의 개발비로 2년간의 연구 끝에 상압 일반공기압 에서 반응성가스에 열에너지를 공급할 경우 발생하는 화학 반응을 통해 박막이 형성되는 APCVD기술을 개발, 최근 미국에서 개최된 디스플레이분야의세계 최고학회인 "SID(Society Information Display)"정기총회에서 연구논문 을 발표했다.

APCVD는기존의 플래즈마 증착방식인 PECVD에 비해 공정이 쉽고 에너지 사용량이 적어 박막생산성 및 수율이 향상되고 누설전류 감소로 소비전력이 크게줄어드는 강점이 있는 것으로 알려졌다.

금성사는이번 APCVD를 이용한 TFT LCD제조기술 4건을 국내외에 출원하는 한편 올 하반기부터 자사 TFT LCD파일럿라인에 이 제조기술을 본격 적용, 시제 품 제작에 나설 방침이다.