포스텍(POSTECH·총장 김무환)은 노준석 기계공학과·화학공학과 교수와 기계공학과 통합과정 김주훈 씨·박사과정 오동교 씨 연구팀이 메타 홀로그램을 '도장 찍듯이' 한 번에 찍어내는 원스텝 프린팅 공정을 개발했다고 5일 밝혔다. 이 공정으로 만든 메타 홀로그램 효율은 90%를 웃돌며 세계 최고치를 기록했다.
메타 홀로그램을 만들 때 활용된 기존 전자빔 리소그래피 공정은 속도가 느리고 비용이 많이 든다. 효율도 낮아 어두운 환경에서만 보이거나 이미지가 흐리게 보이기도 한다.
연구팀은 나노 복합재 잉크를 개발, 적은 비용으로 쉽고 빠르게 메타 홀로그램을 프린팅하는 공정을 제시했다. 단단한 기판뿐만 아니라 유연하거나 둥글게 구부러진 기판 위에도 프린팅할 수 있다는 게 특징이다. 연구 결과 프린팅된 메타 홀로그램은 효율이 매우 높아 밝은 조명 아래에서도 선명한 이미지를 보였다.
노준석 교수는 “다양한 기판에 메타 홀로그램을 프린팅하는 데 성공해 가상현실(VR)이나 증강현실(AR)에 접목할 가능성을 열었다”며 “이번 연구성과는 높은 효율의 메타 홀로그램을 대량생산할 방법을 제시함으로써 상용화 가능성을 한층 높인 성과”라고 말했다.
포스코 산학연 융합연구소 사업, LG디스플레이, 한국연구재단 전략형 나노소재 기술 개발 사업·글로벌 프론티어 사업의 지원을 받아 이뤄낸 이번 연구성과는 최근 광학 분야 국제 학술지 '레이저 앤 포토닉스 리뷰'에 게재됐다.
포항=정재훈기자 jhoon@etnews.com
