2009년부터 10년간 연평균 4.7% 늘어
내국인 출원 증가율 6.1%…외국인 상회
다출원인 1위에 韓 중견기업 '케이씨텍'
삼성·솔브레인·LG 등 10위권 내 포함
관련 통계자료 다운로드 CMP 슬러리 분야 출원인 국적별 출원동향 국내 기업이 대표적 반도체 소재 기술인 연마제(CMP 슬러리) 시장 주도권을 잡기 위해 빠르게 추격하고 있다.
국내 시장 점유율이 높은 글로벌 선도 기업이 특허분쟁 등 사유로 특허출원에 주춤한 사이, 국내기업 CMP 슬러리 국산화 비중이 확대되고 있다.
특허청(청장 김용래)은 CMP 슬러리 관련 특허출원이 2009년 87건에서 2018년 131건으로 연평균 4.7% 증가했다고 27일 밝혔다.
이 중 내국인 출원 증가율은 6.1%로 외국인(3.6%)을 상회했고 내국인 출원 점유율도 2009년 39.1%에서 2018년 44.3%로 5.2% 증가했다.
미국과 일본 등 글로벌 선도 기업들 강세 속에서 국산화 비중 확대를 위해 국내기업 특허출원을 꾸준히 늘리며 노력한 결과다.
최근 10년간(2009년~2018년) CMP 슬러리 분야 다출원인 중 1위는 케이씨텍(164건, 16.3%)이 차지했고 글로벌 기업 후지미(124건, 12.4%), 히타치(85건, 8.5%), 캐보트(83건, 8.3%)가 뒤를 이었다.
삼성(70건, 7.0%), 솔브레인(53건, 5.3%), LG(25건, 2.5%) 등은 10위권 안에 포함됐다.
특히 국내 중견기업인 케이씨텍과 솔브레인이 활발한 특허출원으로 CMP 슬러리 분야에서 내국인 특허출원 증가를 견인하고 있는 점이 눈여겨볼 만하다.
세부 기술별로는 실리콘 절연막 슬러리(365건, 36.4%)가 가장 많았고 구리, 텅스텐 등 금속막 슬러리(290건, 28.9%), 연마입자(202건, 20.1%), 유기막, 상변화막 등 특수막 슬러리(75건, 7.5%) 등 순이다.
출원인 유형별로는 외국기업 61.2%(614건), 국내기업 37.5%(377건)로 국내외 기업이 특허출원을 주도했고 나머지 국내 대학 1.0%(10건), 국내 연구소 0.2%(2건), 외국대학 0.1%(1건) 등은 저조했다.
유밀 특허청 유기화학심사과 심사관은 “우리 기업의 적극적인 특허출원으로 CMP 슬러리 국산화 확대가 기대된다”며 “반도체 미세화, 고집적화는 계속 진행되고 있어 이러한 요구에 부합하는 CMP 슬러리에 대한 기술개발은 여전히 필요할 것”이라고 말했다.
대전=양승민기자 sm104y@etnews.com
