반도체 중흥 꿈꾸며…나노종기원, 소부장 국산화 열기 이어간다

국내 나노인프라 기관 가운데 맏형 역할을 하는 나노종합기술원(원장 이조원·이하 나노종기원)이 우리나라 반도체 분야 중흥을 위한 기틀을 마련한다. 일본 반도체 분야 수출 규제 조치로 불붙은 소재·부품·장비 국산화 열기를 계속 이어간다. 관련 분야 중소·중견·대기업을 비롯한 산·학·연 지원과 육성, 전문인력 양성으로 반도체와 나노 분야 업계 전반이 상생하고 동반성장할 수 있도록 돕는다.

나노종기원은 지난 9월 신임 이조원 원장 취임 직후부터 기관 기능 강화를 위한 다양한 방안을 모색해 왔다. 새로운 장비와 설비를 도입하고 이를 외부 산·학·연이 활용할 수 있도록 서비스를 고도화해 기관 경쟁력을 강화하는 것이 첫 번째 목표다.

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나노종기원이 구축을 추진하는 12인차 반도체 테스트베드 레이아웃

특히 신경 쓰는 것은 12인치 웨이퍼용 반도체 테스트베드 구축이다. 삼성전자·SK하이닉스와 같은 반도체 전방산업 대기업 공정이 기존 8인치에서 12인치로 변화한 가운데, 소부장 관련 산업인 후방산업 영역도 이를 따라잡을 수 있도록 돕겠다는 계획이다. 현재 후방산업 분야에서는 새로운 12인치 조류에 맞춘 장비 및 부품소재 테스트·인증이 필요하지만, 국내 지원 기반 취약으로 어려움을 겪고 있다. 자체 평가팹이나 12인치 패턴 웨이퍼 평가 장비가 없어 해외 시설에 의존하고 있다. 이에 따라 나노종기원은 오는 2022년까지 450억원 사업비를 들여 12인치 공공 성능평가팹을 구축한다. 990㎡ 면적에 패터닝, 식각, 확산, 증착, 세정, 측정 등 분야별 다양한 고가 장비를 도입할 계획이다. 이르면 내년 하반기부터 외부 서비스에 돌입하는 것을 목표로 두고 있다.

핵심은 패터닝 장비 '불화아르곤(ArF) 이머전 스캐너'다. 이 장비는 40나노미터(㎚) 간격으로 미세한 패턴을 구현할 수 있는 첨단기기다. 나노종기원은 2004년 이후 구축된 8인치 장비를 90㎚수준으로 업그레이드 해 활용 폭을 늘리는 안도 추진한다. 지금은 180㎚ 수준 정밀도로 소자와 소재, 센서 공정 기술을 지원하고 있다. 이를 다기능·고성능 미세반도체 소자 제작이 가능한 90㎚ 수준 공정으로 재탄생시켜 시스템 반도체 분야 활용을 확대한다는 것이 나노종기원의 계획이다. ArF 드라이 스캐너, 감광제 코팅·현상용 트랙, 미디움 커런트 I/I, 저압 화학품 증착로(LP CVD Furance) 등 4대 장비를 우선 구축한다. 그 뒤에 공정 품질관리 시스템과 공정 오염제거 장비를 추가 도입해 전체 시스템을 완비한다.

나노종기원은 이들 사업이 그동안 꾸준히 증가해온 기관 외부 지원규모 확대에 기폭제 역할을 할 것으로 보고 있다. 산·학·연의 나노종기원 팹서비스 이용횟수는 2005년 2672건에서 올해 약 2만8000여건까지 10배 이상 성장해 왔다. 현재 추진하는 사업이 본궤도에 오르면 훨씬 큰 폭의 성장이 가능할 전망이다.

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나노전문인력양성 및 일자리 지원 사업 개요

나노종기원은 이밖에도 나노 전문인력 양성과 일자리 지원도 확대할 계획이다. 자체 보유한 첨단 나노인프라를 활용해 이공계 청년 미취업자에게 나노기술 공정개발·서비스, 장비운영 등 교육을 진행한다. 교육과 함께 취업을 지원하고, 교육기간 후 미취업자에게는 인턴 근무기간을 제공해 직무능력을 배가하는 동시에 부족한 장비운용 인력을 확보할 계획이다.

올해 처음으로 50명을 대상으로 사업을 시작했는데, 전반기 25명 수료자 가운데 19명이 대기업 취업에 성공했다. 내년 사업 규모는 80명으로, 이후에도 단계적으로 확대할 계획이다.

이조원 나노종합기술원장은 “나노·반도체 분야 10원짜리 성과를 1만원으로 배가시키는 것이 나노종합기술원의 역할이라고 본다”며 “부단한 장비·설비 구축 노력과 인력 양성으로 산·학·연 연결을 촉진하는 교량 역할을 강화해 나가는 기관으로 육성하겠다”고 말했다.


대전=김영준기자 kyj85@etnews.com


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