세계 3위의 메모리 반도체 업체인 일본 엘피다(Elpida)가 지난 5월 "7월부터 회로 선폭(간격)을 25나노미터(1나노미터는 10억분의 1미터)까지 줄인 D램 반도체를 세계 최초로 양산하겠다"고 호언장담했으나[http://www.etnews.com/201105020218] 결국 허세인 것이 밝혀졌다고 조선일보 등 일부 언론들이 1일 보도했다.
보도에 따르면 당시 `19년 만의 한·일 반도체 기술 재역전`이라며 호들갑을 떨던 일본 언론도 엘피다의 거짓말에 잠잠해 진 상태다.
엘피다는 7월 마지막 날인 31일까지 25나노 공정을 적용한 D램 샘플(견본)을 고객사에 전달하지 못한 상황이다. 7월 말 현재까지 양산 계획에 관한 추가 발표도 하지 않았다. 당시 이 회사는 지난 5월 "(25나노미터 D램을) 7월부터 양산하겠다"고 밝혔다. 일본 업계는 한국 업체에 빼앗긴 반도체 주도권을 20여년 만에 되찾는 계기가 될 것이라며 흥분했다.
그러나 신문은 "업계에서는 엘피다가 연말까지 25나노급 제품을 양산하기 어려울 것이라는 회의적 시각이 지배적"이라며 "양산 전 시제품을 주요 고객사에 보내게 되는데, 아직 샘플조자 전달하지 못하고 있다"고 지적했다. 샘플 테스트 등 일정을 감안하면 엘피다가 연내 양산에 성공할지도 불투명한 셈이다. 오히려 일부 외신들은 D램 가격 급락을 견디다 못한 엘피다가 일시적으로 20% 가량 감산에 나설 계획이라고 보도하기도 했다.
신문은 특히 "엘피다가 공식 발표한 양산 계획을 못 지킨 것은 이번이 처음이 아니다"며 "엘피다는 2009년과 지난해에도 각각 40나노미터 D램과 30나노미터 D램 양산 계획을 발표해놓고 일정을 맞추지 못했다"고 지적했다. 업계에서는 엘피다가 삼성전자보다 1년가량 기술이 뒤처진 것으로 보고 있다.
전자신문미디어 테크트렌드팀 trend@etnews.com
