단원자층 증착기술(ALD)과 관련한 학계와 업계가 참여해 만들어진 협의체인 ‘KOREA ALD 연구회(회장 전형탁 한양대 교수)’가 ALD 관련 기술교류의 장으로 자리를 잡았다. ALD는 박막에 가해지는 충격이 적을 뿐 아니라 불순물의 함유량이 적고 나노미터 이하의 두께를 제어하면서 증착한다. 화학적기상증착방식(CVD)을 이어갈 차세대 반도체와 나노소자 공정개발의 핵심 기술로 떠올랐다.
세계적으로 많은 연구가 진행되며 국내에선 신현국 유피케미칼 회장과 전형탁 한양대 교수 등의 주도로 지난 2005년 KOREA ALD 연구회를 결성하고 관련 학술행사인 ‘K-ALD 워크숍’을 마련해 산학연 전문가 간 연구활동과 기술교류를 펼치고 있다.
올해로 4회째인 ‘K-ALD 2008 워크숍’이 30일 서울 행당동 한양대 백남학술정보관에서 열린다. 삼성전자와 하이닉스반도체·삼성SDI·주성엔지니어링·에어프로덕트 등 업계와 연구계(ETRI), 학계(서울대·KAIST·포스텍·한양대 등) 전문가들이 대거 참석할 예정이다.
특히, 미국의 석학인 스티븐 조지 박사가 참석해 ‘유·무기 혼성 고분자 물질의 박막형성에 관한 연구’을 주제로 강연할 예정이다.
4년 연속 행사를 후원하고 있는 신현국 유피케미칼 회장은 “ALD 분야는 한국의 연구 수준이나 결과가 바로 세계적인 수준이어서 이번 교류회가 한국 산업의 경쟁력 유지에 큰 도움이 되길 바란다”고 말했다.
주문정기자 mjjoo@
