표준연 연구팀, 산화알루미늄 박막 대량생산기술 개발

　알루미늄 표면에 10억분의 1m 크기의 나노 구멍을 규칙적으로 배열한 산화 알루미늄 박막 대량 생산기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

　한국표준과학연구원 이우 박사와 독일 막스플랑크 마이크로구조 물리학연구소 연구진은 펄스를 이용해 나노다공성 산화알루미늄 박막을 대량으로 생산하는 기술을 개발했다고 밝혔다. 연구성과는 24일 ‘네이처 나노테크놀러지’에 게재됐다.

　이 기술은 기존 알루미늄 가공기술의 문제점을 획기적으로 개선한 것으로 광결정과 맞춤형 나노선 등 나노구조체와 고기능성 첨단기술 제품 생산에 기여할 것으로 기대된다.

　지금까지 알루미늄 표면가공에 사용된 ‘하드애노다이징’과 ‘마일드애노다이징’ 공정은 구멍 크기와 배열 불균일, 피막 표면의 균열, 느린 공정속도 등의 문제점이 있었다. 연구진은 짧은 시간의 전압펄스를 규칙적으로 가함으로써 두 기술의 장점만 가진 ‘펄스애노다이징’ 기술을 개발했다.

　이 박사는 “이 기술로 얻어지는 나노다공성 산화 알루미늄 박막은 광결정, 맞춤형 나노선, 나노튜브와 같은 나노구조체나 패터닝 마스크 및 필터 등 고기능성 첨단기술제품 생산에 적합할 것”이라며 “구멍 형성과 관련된 메커니즘을 이해할 수 있는 단서를 제공함으로써 양극산화를 통해 새로운 다공성 산화피막을 생산할 수 있는 토대가 될 것”이라고 말했다.

　 권건호기자@전자신문, wingh1@