인텔 다롄공장, 65나노 공정 도입할 듯

　미국 정부의 대중국 첨단기술 수출 제한에도 불구하고 인텔이 오는 2010년 완공 예정인 중국 다롄 공장에 당초 계획보다 최신 반도체 생산 공정을 적용할 예정으로 알려졌다. 본지 3월27일자 15면 참조

　차이나데일리는 인텔이 다롄 공장에서 현행 90나노 공정보다 1∼2단계 앞선 65㎚ 또는 45㎚ 공정을 적용해 반도체를 생산할 계획이라고 21일 보도했다.

　샤더런 다롄 시장은 이날 “인텔이 65㎚ 또는 45㎚ 생산기술을 다롄공장에 적용할 것이 확실시되며, 이를 위해 이 공장에 세계적 수준의 연구개발 시설을 갖출 계획”이라고 밝혔다.

　이는 인텔이 지난 3월 25억달러(약2조3000억원)를 투자해 다롄에 아시아 최초의 반도체 생산 공장을 건립하겠다는 계획을 발표할 당시 공장에 적용할 기술 수준으로 언급한 90㎚ 기술보다 1∼2단계 진보한 것이다.

　지난 2005년 말 65㎚ 기술을 처음 선보였던 인텔은 지난해 6월 아일랜드에 65㎚ 반도체 생산공장을 설립해 양산에 들어갔으며, 올해 하반기에는 이보다 1단계 향상된 45㎚기술을 적용한 반도체를 내놓을 계획이다.

　 조윤아기자@전자신문, forange@