동부일렉, 미 멘토와 OPC기술 개발

　동부일렉트로닉스(대표 윤대근 http://www.dongbuelec.com)는 28일 세계적인 반도체 설계툴(EDA )업체인 미국 멘토그래픽스와 제휴, 나노 공정기술 개발기간을 절반 이상 단축할 수 있는 OPC(Optical Proximity Correction) 기술을 개발했다고 28일 밝혔다.

　OPC란 반도체 제조공정 중 복잡한 전기적 설계회로를 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려 넣는 포토공정에서 빛의 특성 때문에 발생하는 굴절 등 왜곡 현상을 보정, 원하는 설계 회로를 웨이퍼에 정확하게 패턴화할 수 있게 해주는 기술이다. 이 기술을 이용하면 포토 공정의 해상도를 높일 수 있기 때문에 상대적으로 가격이 저렴한 저등급의 마스크를 사용해도 품질을 높일 수 있어 제조원가 절감이 가능하다는 게 회사 측 설명이다.

　이번에 동부가 멘토와 제휴해 개발한 기술은 90나노급 제조 공정기술에 적용할 수 있는 것으로, 동부일렉트로닉스는 이 기술을 90나노 공정 전환에 활용해 이르면 내년 90나노 제조 공정을 확보할 것으로 전망된다.

　최근 첨단 전자기기들이 점차 소형화·경량화되면서 반도체 회로 선 폭이 90나노급 이하로 정밀해진 하이엔드급 시스템반도체들과 한 개의 칩에 다양한 기능을 요구하는 시스템 온 칩(SoC)의 필요성이 커지고 있어, 복잡한 반도체 설계회로를 기판에 정확히 패턴화할 수 있는 OPC 기술의 중요성이 점차 부각되고 있다.

　동부일렉트로닉스 측은 “이 OPC 기술을 이용해 반도체를 제조할 때 제조 공정 오류를 최소화할 수 있어 1년 이상 걸리는 공정기술 개발시기를 최대 6개월 이상 단축시킬 수 있다”며 “양산시기를 앞당길 수 있을 뿐만 아니라 생산수율도 높일 수 있어 고객사들에게 고품질의 제품을 신속하게 공급할 수 있을 것”이라고 밝혔다.

　동부일렉트로닉스는 선진업체들과 대등한 기술 수준의 OPC 환경을 갖추기 위해 지금까지 약 500만달러를 투자했다. 이번 90나노급 OPC 기술 개발로 동부일렉트로닉스는 지금까지 확보한 0.13미크론급 공정기술보다 업그레이드된 90나노급 제조 공정기술을 확보할 수 있는 기반을 마련했다.

심규호기자@전자신문, khsim@