고집적 나노급 반도체 제조를 위한 핵심 기술인 원자층 증착기술(ALD)과 관련한 특허 출원이 급증하고 있다.
27일 특허청에 따르면 ALD 관련 특허출원은 지난 1998년 32건에 불과했으나 2000년 88건, 2002년 189건, 20004년 274건 등으로 증가 추세를 보이고 있다.
ALD기술은 웨이퍼 표면에 원자층을 한층씩 쌓아 박막을 증착시키는 첨단 증착기술로, 막 두께를 정밀하게 제어할 수 있는데다 회로 선폭이 좁은 홀의 바닥과 벽면에도 균일한 두께로 박막 증착이 가능하다.
이 기술은 박막 인쇄 기술, 디스플레이장치, 광전지, 배터리 및 저장장치 등 다양한 응용 분야에 쉽게 활용이 가능, 오는 2011년에는 응용 분야의 전세계 시장 규모가 155억 달러에 이를 것으로 예상되고 있다.
특허청 관계자는 “ALD 기술은 국내 기업들의 연구가 활발하고, 기술 수준도 외국기업에 비해 앞서 있다”며 “앞으로 ALD에서 앞선 기술력을 보유한 국내 기업들이 반도체를 비롯한 다양한 응용 분야에서 두각을 나타낼 것”이라고 말했다.
대전=신선미기자@전자신문, smshin@
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