기존 기술·장비보다 10배 이상 빠른 ‘1㎝/s’ 속도로 실리콘 기판 위 원하는 위치에 나노 구조물을 만들 수 있는 ‘원자 힘 현미경(AFM) 리소그라피(lithography) 시스템’을 국내 기술진이 개발했다.
한양대 이해원 교수팀은 과학기술부 테라급 나노소자개발사업단 지원을 받아 세계 최고속(1㎝/s) AFM(Atomic Force Lithography) 시스템과 나노 패턴 제작용 고감도 레지스트(Resist·감광물)를 개발했다고 1일 밝혔다.
연구팀은 고속 AFM 리소그라피 기술이 광 및 전자빔 리소그라피 기술을 부분적으로 대체해 나노 패턴 공정 틈새시장을 열 수 있을 것으로 기대했다. 특히 청정시설이 반드시 필요한 광 및 전자빔 리소그라피 기술과 달리 일반 실험실이나 대기 중에서 나노 패턴을 측정·제작할 수 있다.
이해원 교수는 “10만∼20만달러대 저가 고속 리소그라피장비를 중소기업들에게 공급할 계획”이라고 말했다.
이은용기자@전자신문, eylee@
