관련 통계자료 다운로드 인텔의 반도체 회로선폭 발전 과정 인텔이 휴대폰 등 모바일기기에서 발생하는 전력누수를 1000분의 1로 줄일 수 있는 칩 제조 기술을 발표했다고 아시안월스트리트저널(AWSJ)이 21일 보도했다.
이 기술은 65나노미터 공정에서 가능하며 프로세서가 작동하지 않을때 발생하는 전력 누수를 획기적으로 크게 줄일 수 있다는 게 특징이다. 인텔은 ‘메롬’ 등 차세대 프로세서가 출시되는 2007년부터 이 기술을 적용한 칩을 상용화할 예정이다.
반도체 조사 업체인 인스태트의 케빈 크르웰 애널리스트는 “이 기술은 과거에도 개발된 적이 있지만 65나노 공정에 적용키로 한 것은 인텔이 처음”이라고 말했다.
인텔 이외 다른 회사들도 전력 누수 문제 해결을 위해 움직이고 있다. 텍사스인스트루먼츠는 전력누수를 줄이기 위해 ‘스마트 리플렉스’라는 기술을 발표했으며 프리스케일은 ‘비라지로직’사와 전력누수 방지 기술 관련 라이선스를 맺었다.
전경원기자@전자신문, kwjun@
