TSMC, 10억달러 투입해 65나노미터 공정 2005년 완성

　대만 파운드리 업체인 TSMC가 내년말 처음으로 65나노미터 제조 공정을 본격 가동키로 했다고 EE타임스 및 실리콘스트래티지스가 보도했다.

여기에는 130나노 기술 개발비의 2배인 10억달러의 비용이 투입될 것이라고 이 회사 모리스 창 회장이 말했다.

TSMC는 올해 공정 개발을 위해 4억달러를 투자했다. 이중 대부분은 65나노 노드 개발을 위한 기반이 됐다. 올초 이 회사는 처음으로 65나노미터 S램 테스트 모듈을 만들었으며 내년 말 65노드 공정에서 저전력 기기를 개발할 계획임을 밝혔다.

창 회장은 또한 반도체 산업, 특히 칩 설계 분야에서 개발 비용이 점점 늘어나는 것이 유감이라고 말했다. 그는 “중소기업들이 수천만달러의 비용을 들여 제품을 개발해도 잘 팔리지 않는다면 그 기업의 생존은 불투명하다”고 지적했다.

전경원기자@전자신문, kwjun@