인텔, 아일랜드에 20억달러 투자해 300mm 팹구축.

　인텔이 아일랜드에 20억달러를 투자해 65나노 정밀도를 지닌 첨단 300mm 팹시설을 구축할 예정이라고 실리콘스트래티지스가 19일 보도했다. 또 인텔은 90나노 생산라인을 갖춘 아일랜드의 기존 팹시설에도 65나노 공정기술을 적용해 생산성을 높인다는 방침이다. ‘Fab 24-2’로 명명된 신형 300mm 팹은 오는 2006년부터 양산체제에 들어갈 예정이다. 이는 인텔이 삼성에게 빼앗긴 세계 플래시 메모리시장 정상 자리를 다시 탈환하기 위한 포석으로 풀이되는데 회사측은 올해 플래시 메모리 생산량을 전년대비 3배 늘리겠다고 공언한 바 있다.

　한편 인텔은 지난 89년부터 아일랜드 개발청(IDA)과 협약을 맺고 이 지역 반도체 산업에 총 60억달러를 투자해왔다.

<배일한기자 bailh@etnews.co.kr>