반도체 제조용 칠러(chiller) 전문제조업체 라셈텍(대표 윤배원 http://www.lasemtech.com)이 ±0.01도 편차에서 고순도 질소(N₂)가스의 온도를 제어할 수 있는 초정밀 칠러 항온기술과 이 기술을 적용한 칠러를 국내 최초로 개발했다.
이 기술은 청정실(클린룸)이나 세정공정에서 주로 사용하는 고순도 질소가스를 외부 환경과 무관하게 ±0.01도의 온도편차로 유지하는 것이 특징이다.
일반적으로 ±0.1도의 온도편차를 보이는 기존 질소가스 응용 칠러기술에 비해 산술적으로 성능이 10배 가량 개선된 셈이다.
함께 개발된 칠러(모델명 WTC-G012B/C-DPT)는 초정밀 온도조절이 가능하므로 미세온도변화에 민감한 0.1미크론(㎛) 공정에서 요구하는 항온유지가 가능하다.
또 일반 반도체공정뿐만 아니라 높은 수준의 정교함이 요구되는 포토마스크 공정에도 사용이 가능하다고 회사측은 밝혔다.
라셈텍은 고순도 질소가스 관련 기술개발로 국내 초정밀 가스 온도제어 칠러시장은 물론 반도체 외 유관산업 분야에서도 신규수요를 창출할 수 있을 것으로 기대했다.
<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>
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