아펙스, 플라즈마 라디칼 이용한 RACVD기술 개발

반도체장비 제조업체인 아펙스(대표 김상호 http://www.apexsemi.com)는 매엽식 샤워헤드 방식의 라디칼화학증착(RACVD)기술을 개발했다고 29일 밝혔다.

RACVD(Radical Assisted Chemical Vapor Deposition)는 샤워헤드(shower head : 가스가 분사되는 상부전극)내에서 플라즈마 라디칼을 이용해 화학적으로 박막을 증착하는 기술이다.

특히 이 기술은 라디칼·양이온·음이온 등의 에너지로 구성된 플라즈마에서 중성자 성격을 지닌 라디칼 에너지를 선택적으로 활용해 열에너지와 융합, 반응성을 높여 낮은 온도에서도 증착이 가능하다는 장점이 있다.

이 기술은 저압화학증착(LPCVD) 또는 플라즈마화학증착(PECVD)방식에 비해 증착률을 최고 100배까지 향상시킬 수 있고 표면도포성(step coverage)이 0.15미크론 환경에서 95% 이상으로 뛰어나다. 또한 고성능소자기술로 각광받는 원자층막증착(ALD)기술에 비해 시간당 처리능력과 증착막 품질이 높다는 점에서 앞으로 고성능 소자기술 개발의 판도변화를 가져올 것으로 회사측은 예상하고 있다.

아펙스의 김상호 사장은 『올해를 기준으로 연간 13억달러의 시장을 형성하고 있는 LPCVD기술의 대체기술로 RACVD가 활용될 것으로 보인다』며 『우선 반도체공정 중 실리콘 나이트라이드 및 실리콘 옥사이드에 적용한 후 TiN, Al₂O₃,

Ta₂O● 등으로 활용범위를 넓힐 계획』이라고 말했다.

<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>