우광유니텍, 상압 건식플라즈마세정기술 개발

우광유니텍(대표 김기택 http://www.wookwang.com)이 최근 고등기술연구원(IAE·대표 김덕중)과 공동으로 신개념의 건식 플라즈마 세정기술을 개발, 이 기술을 적용한 200×200㎜ 평판유리용 세정장비 시제품을 선보인다고 25일 밝혔다.

이 회사는 올 연말까지 370×470㎜ 평판유리용 세정장비의 시제품도 개발할 예정이다.

반도체 제조장비 업체들은 그동안 유해한 용매사용과 세정효과 부족이라는 기존 습식 세정공정의 문제를 해결하기 위해 건식 세정공정 개발을 위해 다양한 연구를 해 왔는데 우광유니텍이 이번에 개발한 기술은 유전체박막(Dielectric Barrier Discharge)에 의한 대기압·저온 플라즈마 방전을 이용해 대형 평판의 이물질을 제거하는 기술이다.

우광유니텍은 이 기술을 이용하면 기존 진공상태 플라즈마나 UV-O3 처리를 통한 건식 공정이 복잡한 진공시스템 등으로 인해 유지비가 많이 들고 인라인 자동화 시스템을 구성하기가 힘들었던 단점을 해결, 저비용으로 높은 생산성을 기대할 수 있다고 말했다.

또 이 회사는 플라즈마의 높은 세정력을 대기압에서도 사용할 수 있게 돼 반도체 및 각종 전자부품 제조공정에 적용하는 등 산업전체에 파급효과가 클 것으로 예상했다.

<정진영기자 jychung@etnews.co.kr>