코닉스, 반도체 유해가스 제거용 스크러버 개발

코스닥 등록기업인 코닉스(대표 우부형)는 반도체 제조시 발생하는 유해가스를 효과적으로 처리하는 기술을 개발했다고 25일 밝혔다.

우부형 사장은 『열 플라즈마 공정기술을 반도체 유해가스 제거용 스크러버에 적용해 지구온난화 물질인 PFC가스를 처리할 수 있는 기술을 개발했다』며 『열 플라즈마의 특성인 높은 화학적 활성과 초고온을 적용했다』고 말했다.

우 사장은 또 『이번에 개발한 기술은 PFC가스를 실제로 처리할 수 있는 온도가 2000도 이상이기 때문에 난분해성 가스인 PFC를 효과적으로 처리할 수 있으며 기존의 저온 플라즈마 또는 고온 열분해방식(1000도 부근)보다 처리효율이 훨씬 뛰어나다』고 덧붙였다.

반도체 제조공정에서 발생하는 PFC가스는 이산화탄소보다 온난화 지수가 높은 오염물질로 세계 반도체 제조업체들은 2010년까지 사용량의 10% 감축을 약속하고 있다.

이에 따라 미국 리트머스가 저온 플라즈마를 이용한 PFC가스 처리기술을 선보인 이후 우리나라에서도 많은 연구가 진행되고 있다.

우 사장은 『이번에 열 플라즈마 공정기술을 개발한 연구팀을 「플라즈마 테크놀리지」로 분사해 플라즈마 기술을 이용한 특수폐기물 처리장치, 플라즈마 용사장치 등의 개발에 집중할 계획』이라고 밝혔다.

<배일한기자 bailh@etnews.co.kr>