미쓰비시전기, 반도체공장 건설에 2조원 투입

미쓰비시전기가 2조원을 투자해 반도체 공장을 건설한다고 「세미컨덕터비즈니스뉴스」가 보도했다.

이번에 건설되는 신공장은 직경 12인치(약 300㎜) 웨이퍼에 대응한 최첨단 공장으로 오는 2003년까지 최신 메모리 및 시스템 LSI를 양산하게 된다.

미쓰비시는 공장 설립에 거액이 소요되는 만큼 시스템 LSI 미세가공기술 개발에서 제휴하고 있는 마쓰시타전기산업과 마쓰시타전자공업에도 출자를 요청해 투자리스크를 줄여나갈 방침이다.

신공장은 현재 마이크로컨트롤러 등을 생산하고 있는 고치(高知)공장의 부지에 건설되며 올해 후반부터 공사에 착수한다. 미쓰비시는 반도체 수요 및 시황을 주시하면서 향후 클린룸과 양산설비를 순차적으로 도입한다는 계획이다. 클린룸의 면적은 8000∼1만㎡이며 생산능력은 12인치 웨이퍼 환산 월 2만5000∼3만장을 예정하고 있다.

<명승욱기자 swmay@etnews.co.kr>