주성엔지니어링, 반도체소자제조 방법 특허취득

주성엔지니어링(대표 황철주)은 6일 공시를 통해 반도체소자 제조방법과 관련, 국내 특허를 취득했다고 밝혔다. 이번 특허기술은 배선형성 공정에 앞서 오존기체에 의한 산화막 세정공정 및 플라즈마에 의한 표면처리를 진행함으로써 배선박막의 하부층에 손상을 유발하지 않고 반도체 소자표면을 세정, 막질의 특성을 향상시킬 수 있는 기술이다.

주성엔지니어링은 이 기술을 이용, 메탈 화학증착장비(CVD) 사업의 부가가치를 향상시킬 수 있게 됐다고 설명했다. 주성엔지니어링의 특허취득은 올들어서만 여덟번째다.

<김승규기자 seung@etnews.co.kr>