반도체장비업체, PFC 가스 세정장비 개발 박차

국내 반도체장비 제조업체들이 반도체 제조과정중 사용하는 과불화탄소(PFC) 가스를 분해해 대기중에 무해한 상태로 방출하는 세정장비(스크러버)를 잇따라 개발했다.

이는 지난달 말 제주에서 열린 제4차 반도체협의회(WSC) 총회에서 세계 주요 반도체 생산업체들이 앞으로 5∼8년동안 PFC 가스 발생량을 10% 이상 감축하기로 한 데 따라 이르면 올하반기부터 장비 수요가 본격화될 것으로 전망되기 때문이다.

반도체 공정용 세정장비업체인 케이씨텍(대표 고석태 http://www.kctech.co.kr)은 플라즈마 방식(inductively coupled plasma)을 이용, PFC 계열 가스인 SF●·NF₃ 및 규제가스 품목에 포함되지 않은 CF₄·C₂F●·C₃F●까지 분해해 무해한 가스로 변화시키는 「PFC 가스 처리용 플라즈마 세정장치」의 시제품을 개발, 테스트중이다.

드라이 가스 세정장비를 생산해온 유니셈(구 유니온산업·대표 김경균 http://www.union-ind.com)도 지난 98년부터 한국표준과학연구원과 공동으로 열분해 방식을 이용해 SF●·NF₃ 및 CF₄·C₂F●·C₃F●도 분해·제거하는 PFC 가스 스크러버 시제품의 개발을 마치고 소자업체에서 평가중이다. 이 회사는 PFC 가스가 분해 후 냉각되면서 재결합하는 문제를 해결했으며, 앞으로 플라즈마 방식의 장비도 개발할 계획이다.

세정장비를 생산해온 태양테크(대표 조현기 http://www.taeyang.com)도 자가발생 열원장치를 이용한 직접 산화방식으로 SF●·NF₃ 등의 가스를 세정하는 PFC 가스 스크러버를 개발해 삼성전자에 공급했다.이 회사는 PFC 계열 가스를 포함해 반도체 제조공정에서 발생하는 각종 가스를 처리하는 「복합형 가스 스크러버」 시제품도 6월 말중 선보일 계획이다.

업계의 한 관계자는 『전세계적으로 국내 장비업체들이 PFC 가스 세정장비시장을 발빠르게 선점하고 있다』면서 『이르면 올하반기부터 국내 소자업체들도 PFC 가스 스크러버를 제조라인(한 라인당 40∼50대 소요)에 적용하면서 관련 장비 수요가 본격화될 것으로 전망된다』고 말했다.

<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>