한·일 특허심사 협력체제 구축

한·일 양국 특허청이 특허심사 협력체제를 구축한다.

특허청은 이달부터 일본과 공동으로 출원된 특허출원에 대해 선행기술조사 결과를 상호 제공키로 했다고 14일 밝혔다.

이에따라 올 상반기에는 우선적으로 전기·전자 분야 중 디스플레이 패널 관련 기술분야를 대상으로 한 공동 선행기술조사 사업이 시작되며, 하반기에는 화학분야 특허출원에 대해 첨단 전산검색시스템을 이용한 공동 선행기술조사 사업이 추진된다.

이는 지난해 11월 열린 한·일 특허청장 회의에서 합의한 결과로 늘어나고 있는 특허출원건에 대한 정보를 양국이 교환, 심사관들의 심사부담을 줄이고 심사처리 기간을 단축하자는 취지에서 본격화하는 것이다.

선행기술조사는 특허출원에 대한 특허권 부여 여부를 판단하기 위해 출원일 전에 이미 알려진 기술을 조사하는 업무로 지난 98년 우리나라에서 일본으로의 출원건수는 3000여건이었으며 일본에서 우리나라로 출원한 건수는 1만여건에 달했다.

특허청 관계자는 『일본과의 선행기술조사 사업이 본격화될 경우 양국간 특허청의 심사부담을 줄일 수 있으며 심사수준도 향상될 것으로 기대된다』며 『향후 미국과 유럽 등과도 협력사업을 확대해 나갈 계획』이라고 말했다.<대전=신선미기자 smshin@etnews.co.kr>