美IBM, 웨이퍼 패턴형성에 사용 광스탬프 개발

미 IBM이 반도체용 실리콘 웨이퍼의 패턴 형성에 사용될 광스탬프를 개발했다고 발표했다. 이번에 개발된 광스탬프는 젤형태의 플라스틱으로 리소그래피 공정시 실리콘 웨이퍼 표면에 얹혀져 패턴 형성용 광원의 파장을 조정하는 역할을 하는 것으로 기존에 사용되던 고가의 정밀 렌즈를 대체할 수 있다고 IBM측은 밝혔다.

이 제품은 반도체 제조공정에 널리 사용되는 2백48㎚의 광원을 1백㎚까지 낮춰 정교한 패턴 형성을 가능케 하는 것으로 알려졌다.

IBM은 광스탬프 기술이 앞으로 편광자, 필터, 회절격자 등 리소그래피 공정 관련 제품들에 채택돼 반도체 제조에 널리 이용될 것으로 예상하고 있다.

<오세관기자>