日NEC, 최신 연구개발단지 가동

일본 NEC가 자사 주력 반도체개발거점인 가나가와현 사가미하라사업소내에 건설하고 있는 최신연구개발단지의 제1기 공사를 끝내고 최근 본격 가동에 들어갔다.

일본 「일경산업신문」에 따르면 NEC는 건설비를 포함,오는 2천3년까지 총 2천억엔을 투자해 설립할 계획인 최첨단 반도체 연구개발시설 「UC동」 공사를 일부 완공하고 3일부터 고성능 반도체 제조를 위한 신소재와 초미세가공기술 개발을 시작했다고 발표했다.

NEC는 당분간 「UC동」을 통해 0.18미크론 이하 미세가공기술을 활용하는 1G에서 4G급 대용량 메모리를 실험 생산할 방침이며 공사가 마무리되는 2천3년까지는 0.07미크론 초미세가공기술을 확립할 계획이다.

NEC는 특히 「UC동」의 효율적인 운영을 위해 연구 개발 라인과 시제품 라인을 일체화하는 한편 고속자동화 시제품 반송 시스템도 도입해 연구 개발 효율을 기존의 2배이상 향상시켰다.

<심규호 기자>