반도체 장비 공급업체인 한국슈테아그(대표 임종렬)가 반도체 제조 공정중 이온 주입후 어닐링(Annealing) 작업 및 각종 산화막 증착에 사용되는 고속 열처리장비인 RTP(Rapid Thermal Processing) 시스템을 본격 국내 공급한다.
최대 0.18미크론 공정에까지 적용 가능한 이 장비는 순간 고열처리 및 균일한 열투사 기능을 보유한 첨단 시스템으로 매초 섭씨 1백50도의 온도까지 순간 상승시킬 수 있는 고성능 RTP 제품이다.
또한 작업 웨이퍼의 상태에 따라 가열 방법을 달리하는 첨단 온도 컨트롤 기능을 보유했으며 한 개의 로봇에 두개의 작업 체임버를 부착, 웨이퍼 처리 능력과 생산 효율성을 극대화시킨 것이 특징이다.
한국슈테아그의 이번 RTP 장비 출시는 지난해 독일 슈테아그 본사가 이 시스템 전문 생산업체인 AST사를 인수한데 따른 것으로 이번 공급하는 RTP 시스템은 3백㎜ 웨이퍼용 「AST3000」 제품과 2백㎜ 웨이퍼용 「AST2800」 등 두가지 모델이다.
<주상돈 기자>
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