반도체 장비 업체인 케이씨텍(대표 고석태)이 반도체 생산 과정에서 발생되는 각종 오염물질을 제거 또는 줄일 수 있는 환경보존형 반도체 장비개발에 나선다.
이 회사는 최근 산업자원부 산하 한국생산기술연구원이 주관하는 「청정생산 기술사업」의 신규 개발 과제중 하나인 과불화화합물(PFC) 처리용 가스 스크러버와 이산화탄소를 이용한 극저온 세정장비의 개발 추진 업체로 최종 선정됐다고 11일 밝혔다.
이에따라 케이씨텍은 향후 2-3년간 정부및 민간 관련 업체의 지원을 받아 플라즈마를 이용한 PFC 가스 처리 기술과 극저온 세정기술의 개발을 추진하게 되며 이를 통해 반도체 공정용 멀티 가스 스크러버와 이산화탄소 세정장비를 국산화시켜 나갈 계획이다.
가스 스크러버는 반도체 제조 과정중 에칭 및 증착 과정에서 주로 발생하는 각종 유독 가스를 정화 처리하는 설비로 지구 환경 파괴 문제에 대한 반도체 업체들의 관심이 높아지면서 최근 이 장비의 채택 및 출시가 붐을 이루고 있다.
이런 가운데 이번 개발 추진되는 플라즈마 방식의 가스스크러버는 현재 주류를 이루고 있는 번-인(Burn-In) 및 웨트(Wet) 방식 제품보다 한 단계 발전된 형태로 미국 등 선진국을 중심으로 점차 도입되기 시작한 차세대 가스 스크러버 장비이다.
이와 함께 케이씨텍이 개발 추진하는 극저온 세정장비는 현재의 웨이퍼 세정장비들이 주로 사용하는 각종 유독 화학물질 대신에 이산화탄소를 이용, 웨이퍼를 세척함으로써 작업후 유해 물질 발생량을 획기적으로 줄일 수 있는 환경 보존형 장비이다.
케이씨텍 한 관계자는 『반도체 공정상 발생되는 PFC등 각종 물질이 지구 온난화 및 오존층 파괴와 관련된 규제 대상물질에 최근 포함됨에 따라 이를 제거할 수 있는 관련 설비의수요는 향후 크게 늘어날 것』으로 전망하며 『따라서 이번 첨단 가스 처리 및 세정장비의 개발 사업이 성공적으로 수행될 경우 관련 장비의 수입 대체는 물론 국내 소자 업체의 원가 절감에도 크게 기여할 수 있을 것』이라고 강조했다.
<주상돈 기자>
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