인텔, 팬티엄등 모든 x86 프로세서 0.25μ 가공기술로 제조

인텔이 올해 안에 펜티엄을 포함한 모든 x86 프로세서를 0.25미크론 미세가공기술로 제조한다.

일본 「일경바이트」에 따르면 인텔의 크레이그 배릿 사장은 최근 뉴욕에서 개최된 증권분석가 세미나 「98 스프링 애널리스트 미팅」을 통해, 올해 안에 모든 x86을 0.25미크론화하는 등 앞으로 제조프로세스 기술의 미세화를 급속히 추진할 방침이라고 밝혔다.

배럿 사장에 따르면 인텔은 우선 지난해 2, 4분기부터 채용해 올 1, 4분기 말 현재 자사 x86 프로세서의 20%에 사용하고 있는 0.25미크론 기술을 올 4, 4분기까지 모든 제품으로 확대할 계획이다.

또 내년 1, 4분기 중에는 0.18미크론 기술을 x86 프로세서 양산에 적용해 0.25미크론 기술과 병행시킨 뒤 이르면 2000년 4, 4분기 중 0.25미크론 기술을 통한 제조는 완전히 중단할 방침이다. 이와 함께 2001년 1, 4분기부터는 0.13미크론 기술을 양산에 활용한다는 계획도 세워놓고 있다.

이같은 인텔의 계획은 현재까지 주류를 이루고 있는 0.35미크론 기술이 지난 95년 1, 4분기부터 채용, 이미 3년 넘게 이용되고 있다는 점을 감안할 때 향후 제조기술 세대교체가 얼마나 급속히 진행될지 짐작할 수 있게 해준다.

한편 인텔은 최근 실적부진에 따라 공장, 생산설비 투자를 포함한 연구개발 예산을 당초 계획보다 낮췄다. 그러나 조정된 올해 연구개발비 약 28억달러는 지난해 실적인 23억달러보다 많은 액수로, 인텔의 적극적인 투자지향 정책에 변함이 없음을 보여주는 것이다.

<심규호 기자>