국내 개발 반도체기술 세계표준 채택 전망

우리나라에서 개발된 최첨단 반도체 측정기술이 세계표준안으로 제시된다.

삼성전자는 「한국표준과학연구원」과 2년간의 공동연구 끝에 세계 최고수준의 반도체 초정밀 측정기술과 표준시료, 절대측정장비를 개발하는데 성공했다고 11일 밝혔다.

이번에 개발된 반도체 초정밀 측정기술은 기존 10nm(1나노미터는 10억분의1 미터)수준보다 한층 향상된 최소 6nm 정도의 초정밀 박막두께 측정을 비롯해 반사율, 표면저항 등 3개 분야에 적용되는 기술로 삼성전자가 반도체 생산현장에서 필요로 하는 측정의 절대기준에 관한 정보와 이를 실제 측정할 수 있는 초정밀기술을 개발, 한국표준과학 연구원에 제공해 새로운 표준으로 확립하게 됐다.

그간 반도체 측정표준에 대한 기술은 미국 국가표준기관인 NIST의 절대기준을 사용해 왔는데 이번 초정밀측정기술 확보로 연간 7억원 이상의 해외 교정비 절감효과는 물론 향후 국가간 첨단기술 경쟁에서 유리한 위치를 차지할 수 있을 것으로 업계는 기대하고 있다.

삼성전자와 한국표준과학연구원은 이 초정밀 측정기술의 세계 표준화를 위해 국내외 업체에 반도체용 기준시료(CRM)보급에 적극 나서는 한편 연내까지 NIST와 프랑스에 소재한 국제도량형국(BITM) 등에 표준안을 제시할 계획이다.

<김경묵 기자>