日 후지쯔, 저소비전력형 반도체공장 건설

일본 후지쯔가 전력소비량을 약 10% 줄일 수 있는 저소비전력형 반도체공장을 건설한다.

「日本經濟新聞」에 따르면 후지쯔는 99년 가동할 예정인 후쿠시마현 아이즈와카마쓰시 아이즈공장에 「부분 클린화」 기술을 도입, 반도체 생산에 불가결한 클린룸의 실질 면적을 기존의 절반으로 축소한 새로운 형태의 반도체공장을 신설한다.

클린룸의 축소는 공조용 소비전력의 억제로 이어져 저소비전력형 반도체공장이 실현될 뿐 아니라 클린룸의 건설비도 약 5% 절감할 수 있는 것으로 알려지고 있다.

후지쯔는 기존 방식과 달리 실제 작업이 이루어지는 지역만을 클린룸화하고, 실리콘웨이퍼의 반송은 질소로 충전한 밀폐상자를 이용해 제조장치에 그대로 집어넣는 방식을 채택했다. 사람이 활동하는 공간의 공기와 클린룸의 공기를 차단함으로써 적은 전력으로도 꼭 필요한 부분의 청정도를 유지할 수 있다.

후지쯔는 이 시스템을 올해안에 미에공장 시제품 생산라인에 실험 도입한 뒤 내년 상반기 착공하는 아이즈공장에 전면 도입할 계획이다.

<심규호 기자>