日 ASET-NTT, X선 활용 반도체제조기술 공동개발

일본 최첨단전자기술개발기구(ASET)와 일본전신전화(NTT)가 최첨단 반도체 제조기술을 공동 개발한다.

「日本經濟新聞」에 따르면 ASET와 NTT는 최근 반도체 제조와 관련한 공동 연구계약을 체결, X선을 활용하는 반도체 제조기술을 개발한다. 4GD램 등 2000년 이후 실용화가 예상되는 최첨단 반도체 관련기술이 개발대상으로, 연구시설은 NTT의 X선 관련 첨단설비를 활용할 방침이다.

이번 공동개발에 참여하는 업체는 ASET의 회원인 후지쯔, 미쓰비시전기, 도시바, NEC, 히타치제작소, NTT어드밴스테크놀로지 등 6개사다. 이들 업체는 X선 형성에 필요한 NTT의 싱크로트론방사광(SOR)시설과 ASET가 도입한 X선 노광시스템을 활용해 스테퍼의 정밀도를 높이는 한편 최종적으로는 전자회로의 원판이 되는 X선용 고정밀 마스크를 개발한다.

NTT는 지난 84년 SOR에 의한 X선 리소그래피 연구를 시작, 이미 X선을 광원으로 하는 0.07미크론 미세가공기술을 확립해 놓고 있다.

X선은 파장이 짧아 미세가공의 광원으로 전망이 매우 밝은 편이나 실용화까지는 아직 기술적 문제가 산적한 상태다.

<심규호 기자>