한빛, 고밀도 플라즈마 소스 개발

에처나 CVD와 같은 첨단 반도체 장비의 핵심모듈인 고밀도 플라즈마 소스가 국내에서 개발됐다.

반도체 장비업체인 한빛진공산업개발(대표 박상규)은 3백㎜(12인치) 웨이퍼용 반도체 장비에까지 대응 가능한 고밀도 플라즈마 소스를 국내 최초로 개발, 이달부터 이 기술을 응용한 각종 전공정 반도체 장비의 개발 및 양산에 나선다고 5일 밝혔다.

이 회사가 4년여의 연구기간을 거쳐 개발한 이 고밀도 플라즈마 소스는 에처나 CVD와 같은 전공정 반도체 장비에 부착, 증착 및 에칭공정에 필요한 플라즈마 환경을 만들어 주는 반도체 장비의 핵심모듈로 1㎤당 10¹¹의 플라즈마 밀도를 지닌 고밀도 제품이다.

또한 이 제품은 플라즈마 발생영역이 대면적 구조로 설계돼 3백㎜ 웨이퍼 공정에까지 적용 가능하며 미세 웨이퍼 표면작업을 위해 플라즈마 충격정도를 조정할 수 있는 이온에너지 조절기능도 갖추고 있다.

현재 이 플라즈마 발생 장치 관련 국내 특허출원을 준비중인 이 회사는 이번 개발된 플라즈마 소스를 모듈제품 형태로 국내에 공급하기보다는 이 기술을 응용한 스퍼터, 에처, CVD 등의 장비 완제품 형태로 출시할 방침이다.

이 회사는 이에 따라 최근 서울대, 한양대 등 반도체 관련 대학연구소에 자사의 플라즈마 발생 기술이 적용된 4인치 웨이퍼용 스퍼터 및 헬리콘파 CVD 장비 10대를 제작, 이미 납품 완료했으며 국내 소자업체와 2백㎜ 및 3백㎜ 웨이퍼용 양산 장비의 본격적인 생산을 위한 기술협의를 진행중이라고 밝혔다.

이와 함께 이 회사는 양산용 장비 생산에 필수적인 클러스터 툴 관련 기술의 조기확보를 위해 미국 B사 및 R사와 최근 접촉중이며 자체공장 건설을 위해 국내 창업투자사들의 자본 참여방안 등도 현재 논의 중이라고 말했다.

또한 이 회사는 플라즈마 소스 외에도 마이크로웨이브 및 고주파 전력 공급기, 급속 가열 히터, 이온 및 전자 광선 소스 등 반도체 장비 개발에 필수적인 각종 모듈 제품은 물론 밸로, 플랜지벌브 등의 진공 관련 컴포넌트 부품들까지 이미 개발 완료한 상태라고 밝혔다.

박상규 사장은 『어플라이드머티리얼스, 램 등과 같은 세계적인 반도체 장비업체들 대부분이 플라즈마 소스 및 마이크로웨이브 장치에 대한 자체 솔루션을 이미 보유하고 있으며 따라서 이들과 경쟁해 이기기 위해서는 이러한 모듈기술을 확보하는 것이 무엇보다 중요하다』고 강조했다.

<주상돈 기자>