반도체 전공정장비 생산 본궤도 진입

전체 반도체장비 시장의 55% 이상을 차지하면서도 그간 마땅한 국산 제품이 없어 거의 전량 외산에 의존해 온 에처, CVD, 웨트스테이션 등 반도체 전공정장비의 국내개발 및 생산이 올들어 본격화되고 있다.

19일 관련업계에 따르면 작년부터 미래산업, 한양기공, 아토, 피에스케이 등 기존 후공정장비 및 유틸리티 생산업체들의 전공정장비 시장 진출이 붐을 이루고 있는 가운데 올들어 아펙스, 주성엔지니어링, 지니텍, 청송시스템, 선익 등 설립 2∼3년차 전공정장비 전문업체들의 장비 개발 및 양산 계획도 구체화 단계에 접어들고 있다. 이에따라 이미 CVD, 에처, 웨트스테이션 등 일부 전공장장비는 국산대체에 들어갔으며 하반기에는 현재 개발 완료돼 양산을 준비중인 전공정 장비들이 대거 선보일 예정이어서 2000년 이후나 가능할 것으로 예상됐던 국산 전공정장비 생산의 본궤도 진입도 훨씬 앞당겨질 전망이다.

반도체 전공정에 사용되는 화학적증착장비인 CVD의 경우 주성엔지니어링의 저압기상(LP) CVD와 아펙스의 유기금속(MO) CVD가 이미 지난해 본격 양산에 들어가 국내 주요 소자업체에 공급됐다. 또한 작년에 설립된 지니텍이 펄스드 소스 CVD를 개발,최근 두산기계와 공동으로 생산에 들어간데 이어 ECR 플라즈마 방식의 PE CVD를 개발한 선익도 올해부터 양산용 제품 생산에 착수한다.

이와함께 가스공급장치 전문업체인 아토도 2백56MD램 이상의 고집적 반도체 제조에 적용할 수 있는 고밀도 플라즈마 CVD의 핵심부품인 클러스터툴 컨트롤러(CTC)를 개발,올해부터 이 장비를 양산할 방침이며 청송시스템도 HDP CVD의 개발을 완료하고 현재 성능시험중인 것으로 알려졌다.

웨이퍼상의 각종 화학막들을 식각하는 장비인 에처는 청송시스템이 지난 세미콘 전시회에 건식 에처 「버팔로 8000P」를 선보이고 본격생산에 들어간데 이어 피에스케이 또한 2백56MD램 이상 제품에 적용가능한 라운드 에칭용 장비인 「INTEGER」를 최근 개발했다. 트랙장비의 경우 미래산업이 미국 AIO社와 합작으로 「미래AIO」를 설립하고 최근 천안3공단에 6천평 규모로 공장착공에 들어가 98년부터 본격 생산한다는 계획이다.

또한 웨이퍼 세척장비인 웨트스테이션의 경우 한양기공이 작년에 4∼5인치 웨이퍼 겸용 오토 웨트스테이션을 개발한데 이어 올하반기에는 카세트리스 웨트스테이션 시제품을 선보일 방침이다. 또 다른 웨트스테이션 전문업체인 국내 D社도 협력업체인 B社에 대한 적극적인 기술 지원을 통해 주요 웨트스테이션 장비를 이미 국산화한 것으로 알려졌다.

업계 전문가들은 『전공정장비들이 양산용으로까지 확대 채용되기 위해서는 멀티 챔버의 작동에 따른 컨트롤러 기술 등 각종 핵심 운영기술을 확보하는 것이 최대 관건』이라고 지적하며 『여하튼 전공정 분야에 대한 국내업체들의 최근 움직임은 그동안 경제적 및 기술적 파급효과 등을 이유로 이 분야에 대한 국내 기술 개발의 필요성 만큼은 끊임없이 제기돼 왔다는 점에서 상당히 주목할만한 일』이라고 말했다.

<김경묵·주상돈 기자>