한국아토엔, CVD(화학적 증착)장비 개발 추진

그동안 반도체용 가스공급장치 등 주변장치류에 주력해온 한국아토엔지니어링이 CVD(화학적 증착)장비 등 반도체 전공정장비 사업에 참여한다.

한국아토엔지니어링(대표 오순봉)은 반도체 장비시장의 빠른 성장에 적극대응, 전공정 핵심장비 생산에 참여키로 하고 97년말 시생산을 목표로 고밀도플라즈마(HDP:High Density Plasma) CVD장비 개발에 착수했다고 1일 밝혔다.

아토는 이를 위해 지난해말 설계부문을 포함, 21명의 인원으로 "CVD개발팀"을 구성했으며 올해 10억원을 시작으로 97년말까지 총 40억원을 집중 투자할계획이다. 또한 올 1`4분기내에 미프라즈마퀘스트사 등을 포함한 2~3개의해외 기술제휴선을 확보하고 현대.삼성 등 국내 수요업체들의 협조아래 장비개발을 위한 인프라를 구축할 예정이다.

이 회사가 개발중인 HDP CVD장비는 기존 열가열식 CVD와 달리 플라즈마를이용한 전자공명장치(ECR)를 채용, 저온공정으로 선폭간의 확산방지와 전류및전압손실을 크게 줄여주는 등 보다 향상된 회로형성을 가능케 함으로써 2백56MD램 이상의 차세대 반도체공정을 위한 필수적인 장비로 꼽히고 있다.

아토엔지니어링은 또 원활한 CVD장비 생산을 위해 30억원을 추가투자, 수원인근 비봉지역에 3천평 규모의 제2공장을 건설하고 연내에 공장을 확대 이전할 방침이다.

〈김경묵기자〉