AMK, 고속 열처리장비 RTP챔버 공급

반도체 장비업체인 AMK(대표 이영일)가 기존 배치형 시스템보다 순간 고열처리와 균일한 열투사율면에서 성능이 우수한 고속 열처리장비 RTP(Rapid Ther mal Processing)챔버를 공급한다.

단결정 배열의 안정화를 위한 이온주입 어닐링(Annealing)、 산화막증착 등반도체의 핵심 제조공정 가운데 열처리부분에 사용되는 이 시스템은 6개의 광센서가 부착돼 온도、 도펀트 확산 및 시트저항률을 균일하게 조정하며 온도도 매초 섭씨 75도씩 순간 상승시킬 수 있는 고성능 제품이다.

또 섭씨 1천50도 공정에서 시간당 60매의 웨이퍼를 처리할 수 있으며 두개의공정실로 구성된 시스템의 경우, 웨이퍼당 약 2달러의 낮은 운영비용으로 높은 생산성을 유지할 수 있는 점이 특징이다.

AMK는 이 시스템을 4.4분기부터 본격 공급하는 한편, 적용범위도 향후 CVD、 에치、 고온증착 등으로 확대해 나갈 계획이다. <김경묵 기자>