특허청, 의장에도 출원공개제 도입

특허청은 의장등록 출원인의 권리를 조기에 보호하기 위해 의장출원공개제를도입키로 했다.

특허청은 28일 의장출원 기간중 제3자의 모방에 신속히 대응하기 위해 의장 등록출원공개제를 도입、 내년부터 시행할 방침이라고 밝혔다.

의장등록출원공개제도는 출원인이 출원후 사정전까지 공개를 신청할 경우 이를 공개해 의장권설정전 제3자의 모방、 도용에 대해 보상금청구권을 소급적 으로 행사할 수 있도록 하는 제도이다.

또한 의장출원이 공개되면 우선 심사를 신청할 수 있도록 해 심사처리기간을 단축、 출원의장을 조기에 보호할 수 있게 하고 관련정보를 사전에 제공해 공증심사 과정을 거칠 수 있도록 할 계획이다.

그동안 의장의 등록에 1년2개월이 소요됐는데 제3자의 모방과 도용에 대응방안이 없어 출원인의 권리보호에 허점이 많았다.

특허청은 이번 제도개선으로 출원의장권 조기보호와 함께 심사의 정확성과 신속성이 제고될 수 있을 것으로 기대하고 있다. <박기종 기자>