일본 NEC는 1GD램 시험개발에 사용한 0.25미크론 상보성 금속산화막 반도체 (CMOS)공정기술을 사용해 초소형 16MD램을 개발、 오는 96년초에 샘플출하할 계획이다. 일본 "전파신문"의 최근 보도에 따르면 NEC의 16MD램은 제2세대제품의 약 3분의 1에 해당되는 35 정도로 축소되고 사이클시간을 단축하고 수율을 향상 시키면 생산경비 절감효과도 기대할 수 있다.
이에따라 NEC는 95년도 반도체 설비투자시 NEC규슈 제8확산라인에 0.25미크 론 공정생산을 지원할 수 있는 노광설비를 도입해 오는 96년 후반에는 초소 형 16MD램의 양산을 시작할 예정이다. <주문정 기자>
국제 많이 본 뉴스
-
1
주름 거의 안 보인다?… 폴더블 아이폰 '역대급 완성도' 예고
-
2
“실적 사상최대인데 주가는 폭락”… 엔비디아 쇼크에 나스닥 1%대 급락
-
3
속보이스라엘, 이란 정조준 선제공격…테헤란서 '폭발음' 울렸다
-
4
속보이란, 카타르·쿠웨이트·UAE·바레인 미군기지 공습
-
5
속보미국 당국자 “미국, 대이란 타격 진행중”〈로이터〉
-
6
美·이스라엘 “이란 전역에 4일간 고강도 타격 지속”...중동 확전 긴장 최고조
-
7
美·이스라엘, 이란 공격… 트럼프 “중대한 전투 개시”
-
8
두바이 7성급 호텔 '부르즈 알아랍' 화재…이란 드론 파편과 충돌
-
9
트럼프, 모든 연방기관에 앤트로픽 기술 사용 중단 지시… '위험기업' 지정도
-
10
AI에 가상전쟁 맡겼더니…95%가 핵무기 버튼 눌렀다
브랜드 뉴스룸
×


















