일본 NEC는 1GD램 시험개발에 사용한 0.25미크론 상보성 금속산화막 반도체 (CMOS)공정기술을 사용해 초소형 16MD램을 개발、 오는 96년초에 샘플출하할 계획이다. 일본 "전파신문"의 최근 보도에 따르면 NEC의 16MD램은 제2세대제품의 약 3분의 1에 해당되는 35 정도로 축소되고 사이클시간을 단축하고 수율을 향상 시키면 생산경비 절감효과도 기대할 수 있다.
이에따라 NEC는 95년도 반도체 설비투자시 NEC규슈 제8확산라인에 0.25미크 론 공정생산을 지원할 수 있는 노광설비를 도입해 오는 96년 후반에는 초소 형 16MD램의 양산을 시작할 예정이다. <주문정 기자>
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