미국 AT&T의 벨연구소는 드라이아이스를 사용하는 전자부품의 세정법을 개발했다. 이 세정법은 드라이아이스를 미세입자화, 세정하려는 부품의 표면에 뿌려 닦아낸다. 드라이아이스는 얼룩을 제거하는 동시에 증발하기 때문에 세정후의 폐기물도 적어 처리경비를 절감할 수 있다.
벨연구소는이를 더 연구개발해 향후 반도체 등의 세정에도 응용해 나갈 계획이다.
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