바스프(BASF)가 반도체와 인쇄회로기판(PCB), 디스플레이 제조, 발광다이오드(LED) 생산, 태양광 에너지 등 포토리소그래피 기반 및 관련 산업용 공정에 적용할 수 있는 차세대 황색광 솔루션을 공개했다.
기존 황색 형광등이나 필터 기반 LED는 민감한 공정 보호를 위해 530나노미터(㎚) 이하의 단파장을 차단하는 과정에서 많은 에너지를 소비하는 게 단점으로 꼽혔다.
이 솔루션은 흡수·변환 메커니즘을 사용해 유해한 파장을 차단하는 동시에 이를 유용한 황색광으로 변환해 에너지 사용과 시스템 성능을 극대화하며 이와 같은 단점을 극복했다.
구체적으로 △전기 및 냉각 비용 절감 △에너지 사용량 25% 절감 △낮은 열 전달로 안정성 향상 및 수명 연장 △제한 물질에 대해 RoHS 및 REACH 규정 준수 △고온 신뢰성 조건에서도 검증된 뛰어난 열 안정성 △실제 반도체 공정에서 5년 이상 사용 후 성능 저하가 없다는 장기 신뢰성 등을 확보했다.
대표적인 적용 분야는 클린룸 조명, 리소그래피, PCB 검사 및 엄격한 단파장 제어가 필요한 기타 공정이다.
바스프는 파트너사와 함께 고효율·저탄소 조명 환경 도입을 가속화하기 위해 샘플링, 현장 평가, 탄소발자국 분석을 포함한 기술 지원을 제공한다.
김영호 기자 lloydmind@etnews.com
