반도체·디스플레이 등 국가핵심기술 유출 최대 징역 18년

반도체, 디스플레이, 자동차 등 국가 핵심기술이 국외로 유출하면 법원이 최대 징역 18년까지 선고할 수 있게 됐다.

대법원 양형위원회는 전날 전체 회의를 열고 이 같은 내용의 지식재산·기술 침해범죄에 대한 양형기준을 최종 의결했다고 26일 밝혔다.

양형기준은 판사들이 판결할 때 참고하는 일종의 가이드라인이다. 범행 경위와 피해회복 여부 등 양형 인자에 따라 감경·기본·가중 영역으로 나눠 제안된다.

양형위는 지식재산권범죄 양형 기준에 '산업기술 등 침해행위' 유형을 신설하고 기술침해범죄를 독립된 유형으로 분리했다. 그리고 국가핵심기술 등을 새로 포함해 형량범위표와 양형인자표를 설정했다.

Photo Image
신설된 지식재산권 범죄 양형 기준 '산업기술 등 침해행위' 유형. 〈자료 대법원 양형위원회〉

구체적으로 국가 핵심기술 등 국외 유출 범죄는 최대 징역 18년까지 선고하는 것이 권고된다. 일반적인 산업기술을 유출하는 경우에도 국외는 15년, 국내는 9년을 선고하도록 권고한다. 기존에 각각 9년, 6년에서 처벌이 무거워졌다.

특별가중인자 범위도 확대했다. 피해자에게 심각한 피해를 초래하거나, 비밀 유지 의무가 있는데 이를 어긴 경우 선고 형량을 높일 수 있도록 했다. 반면 미필적 고의로 범행을 저지른 경우 형을 감경하거나 집행유예를 선고할 수 있도록 했다.

새 양형기준은 올해 7월 1일 이후 공소 제기된 사건에 적용된다.

양형위원회는 “기술 침해 범죄에 대한 엄정한 양형을 바라는 국민적 공감대를 반영해 법정형이 동일한 유사 범죄 군의 양형기준보다 규범적으로 상향된 형량 범위를 설정했다”고 밝혔다.

지난해 전국경제인연합회(전경련)는 2021년 '산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(이하 산업기술보호법)'의 양형기준이 낮아 산업기술의 해외 유출을 방지하기 어려워, 양형기준을 상향 조정하고 국가 핵심기술 등의 유출에 대한 별도 양형기준을 마련해야 한다는 의견서를 양형위에 제출한 바 있다.


김영호 기자 lloydmind@etnews.com


브랜드 뉴스룸