<2>글로벌 장비업체 차세대 공정 소개
#전자신문 주최로 내달 16일 개막하는 '테크위크 2020 LIVE'에는 세계 4대 반도체 장비 업체인 어플라이드 머티어리얼즈, ASML, 램리서치, 도쿄일렉트론(TEL)이 총출동한다. 이들 업체들은 테크위크 2020 LIVE를 통해 차세대 첨단 반도체 공정 기술을 집중 소개한다. 특히 세계 시장에서 60% 이상 독보적인 점유율을 보유하고 있는 업체들의 강연은 행사의 하이라이트로 손색이 없다. 강연자들은 최근 대세로 떠오르고 있는 극자외선(EUV) 노광 공정 기술을 비롯해 차세대 메모리 공정 트렌드 공유와 함께 국내 반도체 생태계에 기여할 현지화 전략도 깊이 있게 다룰 예정이다.
세계 반도체 장비 1위 업체인 어플라이드 머티어리얼즈에서는 길 리 수석이사가 '재료 공학으로 구현하는 패터닝'을 주제로 강연에 나선다.
지난 수십년간 반도체 업계에서는 핵심 8대 공정으로 칩을 생산하면서도 300여회에 달하는 공정 스텝 수를 줄이고 비용을 절감하기 위해 꾸준히 노력해왔다. 특히 패터닝 공정 수를 줄이기 위해 심도 있게 연구 개발되고 있는 분야가 재료 공학이다.
한 예로 여러 장비와 공정을 거치지 않고도 식각, 증착 등 반도체 회로를 새기는 작업을 한 개 시스템에서 해결하는 소위 '자가정렬(Self-aligned) 방식'은 꿈의 기술로 불린다.
길 리 수석이사는 재료 성능을 극대화하는 설비로 패터닝 작업 수를 줄이는 방법을 소개한다. 재료 공학 혁신을 앞당기기 위해 회사에서 독자 개발한 머신러닝 시스템에 대해서도 공유할 예정이다.
최기보 ASML코리아 필드마케팅 매니저는 '차세대 반도체 칩을 위한 EUV 노광 기술'에 대해 발표한다.
네덜란드에 본사가 있는 ASML은 EUV 반도체 시대에 가장 주목받는 기업이다. EUV 광원을 활용, 반도체 웨이퍼 위에 회로 모양을 반복적으로 찍어내는 노광 시스템 기술을 원천 확보해 반도체 제조사에 단독 공급한다. ASML이 생산하는 EUV 시스템은 대당 1500억원이 넘는 가격대인 것으로 알려졌다.
ASML은 1세대 노광기 'NXE:3400B'에 이어 성능을 개선한 'NXE:3400C'를 출시하고 삼성전자, TSMC 등 첨단 반도체 제조사를 지원하고 있다.
최 매니저는 ASML이 출시한 최신 EUV 장비의 장점과 특징을 소개하고, 렌즈 크기를 키워 보다 정확하고 정밀한 패터닝을 할 수 있는 '하이-NA(High-NA)' 기술 로드맵에 대해 설명할 예정이다.
램리서치도 차세대 EUV 패터닝 기술을 집중 소개한다. 리치 와이즈 테크니컬 매니징 디렉터는 EUV 노광 기술 전 웨이퍼 위에 바르는 포토레지스트를 화학 반응으로 만드는 '드라이 레지스트' 기술에 대해 강연한다.
이 기술은 지난 2월 세계적인 학회인 국제광공학회(SPIE)에서 발표돼 전문가의 관심을 한 몸에 받은 바 있다.
통상 노광 공정 전 웨이퍼 위에는 포토레지스트 액체를 바르지만 램리서치는 증착 공정으로 포토레지스트 박막을 만드는 차세대 기술을 개발 중이다. 비용이 줄고 노광 공정의 해상력이 기존보다 대폭 증가한다는 점에서 업계 주목을 받고 있다.
도쿄일렉트론(TEL)은 차세대 메모리 제품 구현을 위한 공정 기술을 총망라한다. 박영우 TEL코리아 최고기술책임자(CTO)가 무대에 올라 TEL의 미래 소자 공정 시스템을 소개한다.
박 CTO는 미세 회로 제조에 대응하는 원자층증착법(ALD), 원자층식각(ALE)뿐만 아니라 플라즈마를 강화해 보다 정밀하게 회로를 깎아낼 수 있는 에칭 시스템에 대해 설명한다. 또 수직으로 다이(Die)를 적층하는 3차원(3D) D램, 비휘발성, 가격 경쟁력 등을 장점을 갖춘 STT-M램 등 차세대 메모리 제품과 이를 구현하기 위한 공정 설명도 곁들인다.
이와 함께 한국 고객사에 대응하기 위한 현지화 전략도 공유할 예정이다.
TEL은 지난 1월 삼성전자 평택 캠퍼스 바로 옆에 기술 지원을 위한 대규모 고객 지원센터를 오픈하는 등 즉각적인 대응을 위해 현지화에 앞장서고 있다.
한편 본사 임원인 길 리 어플라이드 머티어리얼즈 수석이사와 리츠 와이즈 램리서치 디렉터 강연은 사전녹화 방송으로 진행된 후 한국지사 임원진의 질의응답 시간이 이어진다.
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강해령기자 kang@etnews.com
