인텔, 15나노 미세공정 최초라인은 이스라엘 팹28. 내년말 양산 목표

인텔이 내년 말 양산가동을 목표로 이스라엘에 위치한 팹28 생산라인에 15나노미터(㎚) 미세공정을 적용한다. 팹28은 현재 22나노 라인이 최첨단 미세공정이다.

　13일 이스라엘 산업무역부는 인텔이 15㎚급 300㎜ 웨이퍼 양산라인 건설을 위해 이스라엘 키르야갓에 위치한 팹(Fab)28 공장을 확장, 증축하기 위한 허가를 요청했다고 밝혔다.

　팹28은 인텔의 전 세계 생산 공장 중 두 번째 큰 곳으로 CPU를 생산한다. 인텔은 15㎚ 라인 증축을 위해 48억달러(약 5조원) 규모의 투자를 진행할 예정이다. 이스라엘 정부와는 최대 10억달러 지원을 협상하고 있다.

　인텔 측은 이번 투자로 인해 1300명의 고용창출 효과가 나타날 것이라고 설명했다. 이를 통해 팹28에서는 총 4400명이 근무하게 된다.

　시기는 내년 말께가 될 것으로 알려졌다. 인텔 측은 “이스라엘 정부가 아직 요청에 대해 확답하지 않았다”며 “만약 확답한다고 해도 지금 ‘당장’ 공정을 업그레이드한다거나 증축한다는 의미는 아니다”고 답했다.

　그간 인텔은 남부 이스라엘 지역에 위치한 공장을 증축할 때마다 정부의 인허가와 더불어 지원금을 받아왔다. 이스라엘 산업무역부는 통상 기업 투자 규모의 12~20%를 지원한다. 이번 투자 계획에 따르면 이스라엘 정부는 최소 5억달러에서 최대 9억6000만달러 규모의 지원금을 내놓는다.

　샬롬 시몬 산업무역부 장관은 “정부가 인텔의 요청을 심사숙고하고 있다”며 “허가는 이스라엘의 정책 하에서 투표로 결정할 것”이라고 밝혔다.

　한편, 인텔은 지난 2008년 35억달러를 들여 45㎚급 양산을 위해 팹28을 지었다. 올해 1월 인텔은 22㎚ 기반 제품 생산 라인을 증축하며 이스라엘 정부에 2억달러를 받았다.

허정윤기자 jyhur@etnews.co.kr