한국기계연구원 이재종 박사 연구팀이 여러 겹의 나노소자를 10㎚ 미만으로 겹치게 대량 생산할 수 있는 차세대 다층 나노 임프린트 장비를 개발했다고 29일 밝혔다.
이 박사팀이 개발한 장비는 복합구조를 지닌 여러층의 나노패턴을 형성할 때 아래 구조와의 위치 간격을 10㎚ 미만의 정밀도로 정렬시킨 뒤 나노패턴을 만드는 ‘10㎚ 오버레이 측정시스템’, 나노 스테이지와 마이크로 스테이지의 회전 중심이 같은 ‘일체형 나노-마이크로 정렬 스테이지’ 시스템을 탑재해 정렬 정도와 공정 정밀도를 높였다.
기존 나노 임프린트 장비는 20㎚급 오버레이 측정장치와 적층방식의 나노-마이크로 스테이지를 갖추고 있다.
새로운 장비 개발로 과거보다 신속하고 정확하게 나노 소자를 대량 생산할 수 있게 됐으며 장비 가격도 낮아 나노 소자 생산원가도 줄일 수 있게 됐다.
개발된 장비는 새한나노텍에 기술이전(기술료 등 14억원)돼 미국 캘리포니아대학교 샌디에이고캠퍼스 등 4곳에 판매됐다.
이재종 박사는 “이번에 개발한 장비는 수㎚급의 정밀도를 바탕으로 대면적 나노 패터닝을 가능케 한 핵심 원천기술의 집합체”라며 “향후 관련 산업계에 큰 파급효과가 기대된다”고 말했다.
대전=박희범기자 hbpark@etnews.co.kr
