취재/전기연, 대면적 나노패턴 인쇄 가능한 신개념 원통형 식각장비 개발

　한국전기연구원이 나노·마이크로 패턴의 대면적 인쇄가 가능한 새로운 개념의 원통형 식각기를 개발했다. 지난 해 원통형 노광기 개발에 이은 후속 성과물이다.

　한국전기연구원(이하 KERI) 밀양나노센터(센터장 오현석)는 반도체 회로나 차세대 디스플레이, 태양전지 등의 대면적 나노·마이크로 패턴을 인쇄할 수 있는 원통 형태의 금형 식각장비(원통형 나노 금형 제작기술)를 개발했다고 30일 밝혔다.

　KERI는 지난해 원통형 나노 노광장비 개발에 이은 이번 식각장비 개발로 차세대 반도체·디스플레이와 태양전지 산업에 필요한 대면적의 나노·마이크로 패턴의 인쇄가 가능한 금형을 제작할 수 있는 일괄공정 체제를 갖추게 됐다.

　KERI가 4년여에 걸쳐 150억여 원의 연구비를 투입해 참여기업들과 공동 개발한 원통형 나노 노광기와 식각 장비는 기존 평판형 장비와 달리 원통형으로 설계돼 한 번의 회전으로 40인치 이상의 ‘대면적’ 소자를 바로 인쇄할 수 있다. 인쇄 시간도 기존 대비 10∼100분의 1로 단축할 수 있으며, 특히 소자 위에 나노미터(10억분의 1미터) 크기의 미세무늬(나노 패턴)를 대면적으로 연속 새길 수 있어 차세대 반도체 및 디스플레이, 태양전지 등의 양산에 획기적 기술로 평가된다.

　그동안 국내외 기업 및 연구소들이 나노패턴의 대면적 인쇄 기술을 개발하고자 다각도의 연구를 거듭했지만 기존 평판 인쇄로는 패턴의 불연속, 오차 등으로 인해 아직까지 만족할 만한 수준의 장비나 기술은 나오지 않고 있는 상태다.

　오현석 박사팀은 롤러 형태의 원통형 인쇄 방식에 자기부상기술을 접목해 이 같은 문제를 해결했다. 오현석 박사는 “평판형 전자인쇄 장비분야에서 매출 1조를 올리고 있는 미국 비스텍이 공동회사 설립을 제안할 만큼 이번 기술에 대해 해외에서 많은 관심을 보이고 있다”며 “사각의 평판 인쇄 기술 대신 원통형 금형을 이용한다는 점에서 반도체, 디스플레이 양산의 패러다임을 변화시킬 것”이라 말했다.

　한편, KERI는 이번 연구성과를 31일 서울 한국과학기술회관에서 발표한다.

창원=임동식기자 dslim@etnews.co.kr