에스앤에스텍(대표 남기수)은 세계 최초의 TFT LCD용 반투과막(TM) 블랭크마스크 기술로 은상의 영예를 안았다.
블랭크마스크는 반도체나 LCD 회로의 설계도라 할 수 있는 포토마스크의 원판이다. 전량 일본으로부터 수입에 의존해 왔다. 에스앤에스텍이 신물질·신구조의 TM 블랭크마스크를 국산화하는 데 성공했다.
이 회사는 스퍼터링 신공정으로 1220×1400㎜의 대면적에서도 2% 이하의 투과율 균일도를 달성했다. 이는 습식 및 건식 식각이 가능한 신물질과 식각액을 개발하고 식각특성과 내화학성이 우수한 반투과막 증착 기술을 개발한 데 따른 것이다. 다양한 공정 개선을 통해 반투과막의 파티클 제어기술을 개발했다. 365∼436㎚의 복합 노광 파장에서 투과율 변화를 0.5% 이하로 낮추는 등 내노광성이 우수하다.
또 △ 436㎚ 노광 파장에서 10∼60 % 투과율 구현이 가능한 반투과막 공정 기술 △436㎚ 노광 파장에서 100도 이하의 위상반전 구현이 가능한 반투과막 두께 제어 기술 △365∼436㎚ 복합 노광 파장에서 투과율 변동폭이 2% 이하인 반투과막 공정기술 개발 등으로 다양한 투과율 조절이 가능하다.
