다우코닝, 차세대 리소그래피 공정을 겨냥한 XR-1541 전자빔 포토레지

　사진은 다우코닝의 포토레지스트를 웨이퍼에 코팅하는 모습.

한국다우코닝(대표 조달호)은 포토마스크 없이 선폭 6㎚까지 구현하게 해 주는 전자빔 포토레지스트(제품명 XR-1541)을 출시한다고 25일 밝혔다.

이 제품은 노광한 포토레지스트를 식각액이 아닌 레이저로 직접 깎아내 공정을 단순하게 하고 미세 패턴을 가능하게 한 직접기록(direct-write) 노광 공정에 사용된다. 32㎚ 이하로 회로선폭을 줄이기 어려운 현재 노광 기술의 한계를 극복하고 집적회로나 마스크, 나노임프린트 몰드 등을 경제적으로 생산할 수 있는 차세대 공정 개발이 가능해질 것으로 회사측은 기대했다.

한세희기자 hahn@