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피에스케이,기판 처리 장치 특허

피에스케이가 기판 처리 장치 및 방법에 대한 특허를 취득했다.

이 기술은 반도체 식각공정에서 발생된 폴리머 또는 이온주입 공정에 의한 변형된 포토레지스트를 제거하는 처리 장치에 관한 것이다.

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