KLA텐커(지사장 홍완철)는 90㎚ 및 65㎚ 이하 반도체 공정용 광학 미세패턴(CD, Critical Dimension) 측정 시스템(모델명 스펙트라CD-XT)을 출시했다고 2일 밝혔다.
CD 측정 시스템은 반도체 웨이퍼 칩 회로의 미세 패턴의 선폭을 측정하는 장치이다.
이 제품은 고성능 분광타원해석법(SE) 기반의 인라인 CD 측정 솔루션을 제공, 기존 제품에 비해 처리량이 2배 이상 향상됐다. 디바이스 구조가 복잡한 STI, 게이트 및 스페이서 등의 첨단 애플리케이션에 적합하다. 입사광을 제공하는 반사율 기반 측정 시스템과 달리 경사 조명을 사용, 미세한 구조적 결함을 감지해 디바이스의 성능 및 수율의 조기 예측이 가능하다고 회사측은 설명했다.
한세희기자@전자신문, hahn@
