70나노 이하에서 반도체 회로 형상 양산
선폭 70나노(1나노=10억분의 1)미터 이하에서 반도체 회로 형상(패턴)을 대량으로 생산할 수 있는 ‘나노 임프린팅(Imprinting) 장비’가 개발됐다. 국제반도체기술로드맵(ITRS)에 의해 차세대 리소그라피(lithography) 후보 기술의 하나로 꼽힌 나노 임프린팅 기술이 국내에서 확립됨에 따라 관련 장비의 세계시장 선점효과가 기대된다.
한국기계연구원 이재종 박사는 22일 “기존 반도체 광 리소그라피 장비로 100나노미터 이하의 회로 형상(선·점) 제작시 나타나는 회절현상을 극복, 반도체 공정에 적용할 수 있는 70나노급 임프린팅 기술을 확립했다”고 밝혔다.
이 박사는 또 “나노부품 대량생산기술을 확보함에 따라 데이터 저장장치, 디스플레이, 광학부품, 나노센서 등 기능성 나노부품 제작분야로의 파급효과가 클 것”으로 전망했다.
이번에 개발된 장비는 웨이퍼 형상에 따라 서로 다르게 힘(임프린팅)을 가할 수 있으며 상온에서 2배로우(기압·baro) 이하 압력으로 나노 임프린팅을 구현한다.
연구팀은 산·학·연 공동으로 상품화 모델을 개발중이다. 우선 대학 실험실과 연구기관에 장비를 보급하고, 1∼2년 후에 산업체에 판매를 본격화할 계획이다. 이미 서울대·광운대·부산대·나노특화팹센터 등에서 구매의사를 보이고 있으며, 디스플레이 전문업체인 엘엔에프 등이 장비 구매를 검토중인 것으로 알려졌다.
연구팀은 또 2008년까지 25나노미터 이하 정렬기술과 8인치 이상 대면적에 적용하는 기술을 개발, 다층막(multi-layer) 공정의 나노 임프린팅 장비를 개발할 계획이다.
이재종 박사는 “오는 2009년께 나노 임프린팅 장비 세계시장규모가 4600억원에 달할 것으로 보인다”며 “국내는 물론 유럽, 미국, 일본 등에 특허를 출원하는 등 시장선점의 초석을 마련하고 있다”고 말했다.
이은용기자@전자신문, eylee@
사진; 한국기계연구원이 개발한 선폭 70나노미터 이하 회로 형상 임프린팅 장비.
