삼성전자가 반도체 핵심 소재중 하나인 감광재료의 관련 기술 특허출원에서 전체의 33.6%를 차지해 최고를 기록했다. 또 출원내용도 80년대까지만 해도 436nm급 레이저감광재료 수준에 머물렀으나 20년이 지난 최근 수년간 157nm급 전자빔용 기술특허가 주종을 이루면서 기술수준의 고도화를 방증했다.
30일 특허청에 따르면 감광재료 관련기술 특허는 지난 1982년부터 2001년말까지 20년간 총 385건이 출원됐다. 출원인별로는 내국인과 외국인 비중이 각각 50%로 비슷한 수준인 가운데 업체별로는 삼성전자가 전체 출원건 385건 가운데 118건(33.6%)으로 가장 많았고 후지포토필름 88건(21.1%), 하이닉스 34건(9.7%), 스미토모화학 29건(8.3%), 쉬플리 20건(5.7%), 금호석유화학 13건(3.&%) 순으로 집계됐다.
표재호 정밀화학심사과장은 “우리나라는 세계적인 반도체 대국임에도 불구하고 그동안 감광재료의 개발이 미진해 대부분 수입에 의존해 왔다”며 “하지만 최근 국내에서도 감광재료에 대한 자체 개발이 활발해져 특허 출원도 점차 증가할 것으로 예상된다”고 말했다.
<대전=신선미기자 smshin@etnews.co.kr>
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