저온폴리 실리콘 TFT 기술, 휴대기기용 디스플레이 기술 주도 전망

　폴리실리콘(p-Si) 박막트랜지스터(TFT) 기술이 휴대기기용 디스플레이 제품 개발을 주도할 것이라는 전망이 나왔다.

　6일 서울 쉐라톤워커힐호텔에서 열린 ‘평판디스플레이(FPD) 엑스포 2001’에서 도시바의 히로유키 에치고 디스플레이 전략마케팅 이사는 “소형화와 저전력 소모 특성이 필수인 휴대기기용 디스플레이에서 p-Si 기술의 적용은 필수”라고 말했다.

　p-Si 기술은 기존 아모퍼스 실리콘(a-Si) 기술에 비해 전자의 이동이 100배나 자유로와 빠른 응답속도와 고해상도를 구현할 수 있다.

　또 테이프오토메이티드본딩(TAB) 없이도 각종 구동회로를 안정화된 기판에 포함할 수 있어 소형화가 가능하며 구조의 단순화로 불량률을 대폭 낮춰 경제적인 생산이 가능하다.

　히로유키 이사는 구동을 위해 10㎂(1㎂는 100만분의 1A) 정도의 많은 전류가 필요한 차세대 풀컬러 능동형(AM) 유기EL 제품에도 p-Si 기술의 도입은 필수라고 밝혔다. 전자의 이동이 부자연스러운 기존 a-Si 기판으로는 0.1㎂의 전류밖에 흘릴 수 없다는 것이다.

　그는 값비싼 석영기판을 사용하는 고온 p-Si 기술은 기판 크기가 작은 프로젝션 제품 용도로만 쓰이고 휴대기기용 디스플레이에서는 유기기판에 레이저를 이용해 제작하는 저온 p-Si 기술이 당분간 기술개발을 주도할 것이라고 설명했다.

　<정진영기자 jychung@etnews.co.kr>